ASML 1nm光刻機研究進展:摩爾定律尚未結束

2020/12/19
高科技

摩爾定律的終點是什麼? 隨著5nm光刻技術的大規模生產和3nm的突破,摩爾定律的終結變得越來越難以捉摸。 可以肯定的是,隨著過程的進一步改進,其成本將成倍增加。

 根據日本媒體Mynavi的報導,歐洲微電子研究中心IMEC首席執行官兼總裁Luc Van den hove在最近一次在線活動的在線演示中表示,與ASML合作已朝著更先進的光刻技術取得了進展。

 本月中旬,ITF論壇在日本東京舉行。 在論壇上,與ASML合作開發光刻技術的比利時半導體研究組織IMEC在微尺度級別上宣布了3nm及以下工藝的技術細節。 至少就目前而言,ASML為3m ,2nm, 1.5nm,1nm甚至Sub 1nm制定了清晰的路線圖,而1nm時代將使光刻機的尺寸大大增加。